真空离子镀膜设备具有沉积速度快，镀材广泛，绕射性好，镀层致密性好，温度可控的优点，其应用日趋广泛，将来有可能代替湿电镀，本公司可根据用户需求配置“多弧靶”，“旋转磁控靶”，“中频孪生溅射靶”，“非平衡磁控溅射靶”及“柱弧”，“大平面弧”等，可实现一室多靶，并可以选配先进的微机自动控制系统，实现全过程自动化控制

炉体直径1200*1300，6+4个多弧靶均布，6台200A逆变电源带转换功能，中心四个靶孔位，可以加装2对孪生靶，12KW逆变偏压，KT-600扩散泵（沈阳），ZJP-300罗茨泵，2X-70旋片泵1台，2X-15旋片泵1台（上海产），三路七星华创流量计，自动进气电源

本公司经营陶瓷真空镀膜设备，质量保证，欢迎咨询洽谈。