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  • 测试项:积冰试验、冻雨试验测试服务介绍:技术参数:工作室内容积:4.5m³内部尺寸:1500×1500×2000 mm温度范围:-25℃~+70℃结冰厚度:0~75mm版本/标准:GJB150.22-1987 4.3标准名称:军用设备环境试验方法 积冰/冻雨试验版本/标准:GJB150.22A-2009 4.3,7.3标准名称:军用装备实验室环境试验方法 第22部分:积冰/冻雨
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  • 简介:棱镜耦合仪是一种先进的光学测量仪器,主要用于测量棱镜的折射率和其他光学特性。它基于光的全反射现象和棱镜对光的折射作用,当光从一个介质传播到另一个介质时,如果入射角大于临界角,光就会被全反射。棱镜耦合仪利用这个特性,将光从一根光纤耦合到另一根光纤,实现光的传输。棱镜耦合仪的工作原理是基于光的干涉
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  • 介绍:风洞试验是一种在风洞中进行的空气动力学测试方法。风洞是一种能够产生可控气流的大型管道或,用于模拟各种环境下的气流条件。在风洞中,研究人员可以将试验对象(如飞机、汽车、桥梁等)的模型或实际物体放置在其中,通过观察和测量气流与试验对象之间的相互作用,来评估其空气动力学性能。主要目的:1. 评估空气动
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  • 简介:发动机试验,是指利用专门的试验和测试设备检验发动机的性能、可靠性和耐久性的实验。全台发动机的试验又称发动机试车。设备参数:海拔高度:0m~6500m(101~42kPa)维持精度:±0.5KPa进气温度:常温~-40℃,维持精度±2℃进气流量:300L/s 自动调节:发动机在变工况条件下实现自动调节,压力参数稳定时间<1min进
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  • 设备参数:供气流量:800~8000kg/h,测试精度±1.0%出口压力:0MPa~3.5MPa,测试精度±0.25%出口温度:-80℃~650℃,测试精度±1.0℃升温速率:5℃/S~90℃/S任意调节噪声:距离试验台1m距离处噪声≤85dB
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  • 简介:空调焓差试验使用空气焓差率:≤20kw
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  • 简介:声学实验室是人为模拟一种特殊的声学环境,主要是用于声学研究和环境声学研究的实验场所。设备参数:消声室尺寸:20.2m×15.0m×10.05m (L×W×H)消声室截止频率:50Hz消声室本底噪声:≤25dB(A)混响室截止频率:100Hz混响室本底噪声:100Hz
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  • 简介:电磁兼容性测试EMC是指设备或系统在其电磁环境中符合要求运行并不对其环境中的任何设备产生无法受的电磁干扰的能力。 EMC设计与EMC测试是相辅相成的。EMC设计的好坏是要通过EMC测试来衡量的。只有在产品的EMC设计和研制的全过程中,进行EMC的相容性预测和评估,才能及早发现可能存在的电磁干扰,并采取必要的抑制和防
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  • 气雾剂充气机气雾剂充气机是用于向气雾剂容器内定量充入抛射剂(如丙烷、丁烷等),使内容物形成雾状喷射效果的设备,广泛应用于日化、医药、化工等领域。其核心功能是通过控制压力和剂量,确保抛射剂与药液/膏体充分混合,保障气雾剂使用时的稳定性和喷射效果。主要类型- 手动充气机:结构简单,适合小批量生产或实验室试
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  • 简介:振动试验台是模拟产品在于、组装运输及使用执行阶段中所遭遇的各种环境,用以鉴定产品是否受环境振动的能力,适用于电子、机电、光电、汽机车、玩具……等各行各业的研究、、品管、。设备参数:最大尺寸:1.2m×1.2m频率范围:5Hz-2000Hz位移幅值:51mm(p-p)最大推力:100kN
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  • 简介:霉菌试验是气候环境试验的一个项目,用于考核产品或材料抵抗霉菌侵袭的能力,与一般环境试验一样,考虑产品在实际运输、储存或使用中,最易遭受霉菌危害的环境条件,在试验室中用人工模拟创造霉菌生长最适宜环境进行试验。也是检测产品抗霉菌的能力和在有利于霉菌生长的条件下,即高湿温暖的环境中和有无机盐存在的条
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  • 洁净门作为出入口的关键部件,频繁接触人员及物料,容易成为细菌、真菌等传播媒介,若门体表面缺乏有效的抗菌保护,微生物易在表面附着,形成隐形污染源,影响洁净环境和产品安全,GMP规范要求洁净区内设备及表备易清洁、抗菌性能,以减少交叉污染风险。抗菌涂层的优势与作用减少交叉污染,提升洁净度电动平开门采用自动化
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  • 激光直写技术采用全新的技术路径提高加工分辨率,一举突破突衍射极限的限制,成功实现纳米尺度加工;突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状,可以广泛应用于各种受体材料,极大地扩展了激光直写设备的应用范围。新一代激光直写光刻设备特点具有核心知识产权的国产激光直写设备具有超越衍射极限的加工能力激光直写技术
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  • 无掩模纳米光刻机采用全新的技术路径提高加工分辨率,一举突破突衍射极限的限制,成功实现纳米尺度加工;突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状,可以广泛应用于各种受体材料,极大地扩展了激光直写设备的应用范围。新一代激光直写光刻设备特点具有核心知识产权的国产激光直写设备具有超越衍射极限的加工能力纳米光电
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  • 激光直写技术采用全新的技术路径提高加工分辨率,一举突破突衍射极限的限制,成功实现纳米尺度加工;突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状,可以广泛应用于各种受体材料,极大地扩展了激光直写设备的应用范围。新一代激光直写光刻设备特点具有核心知识产权的国产激光直写设备具有超越衍射极限的加工能力激光直写技术
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  • HWN-P纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统,根据压电平台的范围,分为P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型,具有结构紧凑、操作方便、维护简单、加工分辨率高、支持多种受体材料等特征,能广泛适用于各种微纳结构及器件、材料工艺探素和小规模生产。该系列产品还可根据用户特殊需求
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  • HWN-L纳米激光直写系统是一款大、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统,可用于晶圆尺寸的大微纳加工,适用于各种微纳结构和器件、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型,具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外,本系统在设计之初保留了充足的物理
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  • 高效絮凝沉淀池是颗粒物在水中作絮凝沉淀的过程。在水中投加混凝剂后,其中悬浮物的胶体及分散颗粒在分子力的相互作用下生成絮状体且在沉降过程中它们互相碰撞凝聚,其尺寸和质量不断变大,沉速不断增加。地面水中投加混凝剂后形成的矾花,生活污水中的有机悬浮物,活性污泥在沉淀过程中都会出现絮凝沉淀的现象。高效絮凝沉
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  • 我们平常所说的实验室污水,主要包括(教学实验室、科研室、研究院等等)基本是采用一些技术手段将污水转变为无毒、无味、无污染,进而对其安全排放。实验室的污水相对比较复杂,而且不具有连续性、复杂多变,其含有的污染物杂质比普通的要高,因此,对其设备的要求也要高。A/O工艺特点(1)工艺流程简单,构筑物少,运行灵活
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  • 大多数生活污水的主要污染物是病原性微生物和有毒有害的物理化学污染物,可以通过各种水处理技术和设备去除水中的物理的、化学的和生物的各种污染物,使水质得到净化,达到国家或地方的水污染物排放标准,保护水资源环境和人体健康。尽管如此,某些生活污水站由于处理技术和管理等方面的原因,污水不能做到稳定达标排放,与
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