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  • 碳纤维产品性能:度、高弹性模量、重量轻、耐酸碱、耐腐蚀,反复使用不易产生记忆性,机械性好易机加工,使用无需定期维护。1、抗拉强度是普通钢材的8-10倍以上,弹性模量优于钢材,具有优异的抗蠕变性能,耐腐蚀性和抗震性。2、重量轻、其重量仅为钢材的1/5。3、高弹性、在机械设备中返复使用、无记忆性、不变形、且抗静
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  • 碳纤维产品性能:度、高弹性模量、重量轻、耐酸碱、耐腐蚀,反复使用不易产生记忆性,机械性好易机加工,使用无需定期维护。1、抗拉强度是普通钢材的8-10倍以上,弹性模量优于钢材,具有优异的抗蠕变性能,耐腐蚀性和抗震性。2、重量轻、其重量仅为钢材的1/5。3、高弹性、在机械设备中返复使用、无记忆性、不变形、且抗静
    85.00
       
  • 碳纤维产品性能:度、高弹性模量、重量轻、耐酸碱、耐腐蚀,反复使用不易产生记忆性,机械性好易机加工,使用无需定期维护。1、抗拉强度是普通钢材的8-10倍以上,弹性模量优于钢材,具有优异的抗蠕变性能,耐腐蚀性和抗震性。2、重量轻、其重量仅为钢材的1/5。3、高弹性、在机械设备中返复使用、无记忆性、不变形、且抗静
    80.00
       
  • 第30届海峡两岸电子机械电子商品交易会支持展会 重点支持展会2026厦门国际轴承工业展览会2026年4月9-11日 厦门国际博览中心同期举办:2026第30届海峡两岸机械电子商品交易会暨厦门工博会厦门国际跨境物流技术及装备博览会组织机构:上海万企鸿商务会展服务有限板块分类:机器人与工业自动化、金属加工、模具、智能、塑料工
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  • 2026年荷兰国际金属加工及工业展TECHNISHOW2026展览日期:2026年3月10-13展览地点:乌德勒支展览周期:两年一届组展单位:中展远洋-国际展会主办单位:乌德勒支皇家展览展览会简介TechniShow 是比荷卢经济联盟最大、最重要的金属、塑料、配件和工具工业生产技术、加工和机械加工展览会,展会有8个展馆,涉及到一些国际大咖
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  • 背景描述:在固体废物处置过程中,‌固废处理料坑气体主要来源于固体废物的分解过程,‌成分复杂,‌包括酸性气体、‌碱性气体以及恶臭气体等‌。‌这些气体在固废处理过程中,‌由于微生物的生化降解作用而产生,‌主要包括甲烷、‌二氧化碳、‌氨、‌硫化氢等。‌其中,‌甲烷和二氧化碳是温室气体,‌而氨和硫化氢则是恶
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  • 供应全自动封闭式大型工业喷砂房135山 0543东 2698产品特点:全自动封闭式大型工业喷砂房采用*进的喷砂技术,能够高效、*准地进行喷砂作业,提高生产效率。封闭式设计有效控制粉尘扩散,保护环境和工人健康。大型空间可容纳各种尺寸的工件,灵活性强,适用范围广。- 应用场景:该大型工业喷砂房广泛应用于汽车、船舶建造、
    138000.00
     
  • 背景描述:涂装车间电泳、中涂、面漆烘干炉排放的高温烟气直接排向大气,造成了热量的浪费,然而涂装车间前处理工艺又需要大量的热水,为了将烟气的热量有效的回收利用,可以在烘干炉末端新增的余热回收装置进行气水换热,用于加热前处理工艺回水,提高锅炉回水温度,从而,降低涂装车间锅炉加热工艺用水的能源消耗,为企业
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  • ZESTRON® VD用于无水工艺的助焊剂清洗液ZESTRON® VD是用于清除电子组装件,陶瓷基板,引线框架型分立器件表面上各种助焊剂残留物的溶剂型清洗液。 ZESTRON® VD设计用于闭环单腔的汽相清洗设备中。相较于其他清洗液的优势:ZESTRON®VD兼有极性和非极性成分,因此可以应用的领域非常广ZESTRON®VD可以通过蒸馏而重复使用
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  • ZESTRON® SW用于印刷机内网板底部擦拭的精密清洗剂ZESTRON® SW 是闪点较高的溶剂型清洗液,它特别设计用于不带有真空干燥的T印刷机内,对网板进行底部擦拭。使用ZESTRON® SW 可以得到稳定可重现的清洗结果,另一方面,ZESTRON® SW 干燥后不会留下残留物,因此印刷工艺的可靠性得以提高。相较于其他清洗液的优势:ZESTRO
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  • ZESTRON® SD 301用于清除焊锡膏、T 胶水和厚膜浆料的网板和丝网清洗液ZESTRON® SD 301 是一款改良配方的清洗液,气味更淡,其快速干燥能力缩短了清洗工艺的时间。ZESTRON® SD 301设计用在喷淋清洗设备中,来清除网板和丝网上的焊锡膏、T 胶水和厚膜浆料。另外,由于ZESTRON® SD 301 的闪点较高,因此还可以用于手工清洗
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  • 2026年匈牙利国际工业展览会(CH-TECH)展会时间: 2026年5月18-21日主办单位:布达佩斯国家展览中心(HUNGEXPO)展会地点:布达佩斯展会周期:一年一届组展单位:中展远洋展览展会概况:“2026年第13届匈牙利工业及自动化展@INDUSTRY DAYS - CH-TECH”将于2026年5月18-21日在匈牙利布达佩斯会展中心举办。该展由HUNGEXPO C. C
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  • 2026年匈牙利国际工业展览会(CH-TECH)展会时间: 2026年5月18-21日主办单位:布达佩斯国家展览中心(HUNGEXPO)展会地点:布达佩斯展会周期:一年一届组展单位:中展远洋展览展会概况:“2026年第13届匈牙利工业及自动化展@INDUSTRY DAYS - CH-TECH”将于2026年5月18-21日在匈牙利布达佩斯会展中心举办。该展由HUNGEXPO C. C
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  • ZESTRON® FA+用于半水工艺的助焊剂清洗液ZESTRON® FA+ 是用于清除电子组装件,陶瓷基板,功率器件(功率模块,引线框架型分立器件,功率LED器件)和封装器件(倒装芯片,CMOS器件)上各种助焊剂残留物的溶剂型清洗液。ZESTRON® FA+具有极佳的清洗能力和极高的负载能力,因此保证了其极长的使用寿命。相较于其他清洗液的
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  • ZESTRON® DW用于镜片表面除蜡、PCB除蜡、功率电子除蜡的溶剂型清洗剂ZESTRON® DW是一款溶剂型清洗剂,专门设计用于去除镜片表面、电子元器件、混合陶瓷、功率模组和引线框架上的蜡残留。相较于其他清洗液的优势:ZESTRON®DW拥有良好的疏水性溶解力,类似于芳香烃(如:甲苯)和含卤溶剂(如:二氯甲烷)可以通过蒸馏而重
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  • ZESTRON® CO 150用于无水共溶工艺的精密清洗液ZESTRON® CO 150是一款为浸入式超声波清洗工艺而研发的溶剂型清洗液。ZESTRON® CO150可在不被稀释的情况下用作预清洗,或与HFE溶剂混合作为共溶溶剂使用。ZESTRON® CO 150特别适用于去除电子组装件,功率模块和引线框架型分立器件上的各种有铅和无铅免洗锡膏的助焊剂残留物
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  • HYDRON® WS 400去除水溶性助焊剂的碱性水基清洗剂HYDRON® WS 400 是一款水基型清洗剂,特别设计用于去除电子组装件上水溶性(WS)助焊剂残留物。该清洗剂与敏感金属兼容。HYDRON® WS 400 在低浓度(3%-5%)应用时,可渗透去离子水无法达到的低底部间隙元器件的细小空隙。浓度上调至15%时,该清洗剂同样可以有效去除R和免洗型
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  • HYDRON® SE 230A用于半导体器件的碱性清洗剂专为浸没式清洗工艺设计的单相水基型清洗剂,能够有效去除多种半导体电子器件芯片焊接后的助焊剂残留物,包括引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS,且能够保证有效去除铜表面的氧化层。相较于其他清洗液的优势:为引线键合、封装和胶装等后续工艺提供无污点
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  • HYDRON® SE 220专为半导体电子设计的 pH中性助焊剂清洗液HYDRON® SE 220是一款水基型单相清洗液,专门设计用于浸没式清洗工艺。HYDRON® SE 220能够有效去除芯片黏着后引线框架、分立器件、功率模块、功率LED等多种半导体电子器件上的助焊剂残留,对于倒装芯片、CMOS等器件也有卓越的清洗效果。相较于其他清洗液的优势:由
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  • HYDRON® SC 300单相水基型钢网清洗剂HYDRON® SC 300 是一款单相水基型清洗产品,用于在室温条件下对T钢网进行清洗。该清洗剂能够高效地在单一工艺中去除锡膏及T贴片胶残留。HYDRON®SC 300同时适用于清洗和漂洗应用,在烘干后不会留下残渍。相较于其他清洗液的优势:对锡膏和T贴片胶极佳的清洗效果烘干后不留残渍与钢网组
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