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  • 德国ZESTRON HYDRON WS400碱性清洗剂
    德国ZESTRON HYDRON WS400碱性清洗剂
    HYDRON® WS 400去除水溶性助焊剂的碱性水基清洗剂HYDRON® WS 400 是一款水基型清洗剂，特别设计用于去除电子组装件上水溶性(WS)助焊剂残留物。该清洗剂与敏感金属兼容。HYDRON® WS 400 在低浓度(3%-5%)应用时，可渗透去离子水无法达到的低底部间隙元器件的细小空隙。浓度上调至15%时，该清洗剂同样可以有效去除R和免洗型
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  • 德国ZESTRON HYDRON® SE 230A碱性清洗剂
    德国ZESTRON HYDRON® SE 230A碱性清洗剂
    HYDRON® SE 230A用于半导体器件的碱性清洗剂专为浸没式清洗工艺设计的单相水基型清洗剂，能够有效去除多种半导体电子器件芯片焊接后的助焊剂残留物，包括引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS，且能够保证有效去除铜表面的氧化层。相较于其他清洗液的优势：为引线键合、封装和胶装等后续工艺提供无污点
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  • 德国ZESTRON ATRON® SP 200碱性水基清洗剂
    德国ZESTRON ATRON® SP 200碱性水基清洗剂
    ATRON® SP 200用于清除烘焙过的助焊剂的水基清洗剂ATRON® SP 200是一款水基碱性表面活性剂型清洗液，特别设计用于清洗焊接夹具和冷凝管上烘焙过的助焊剂。ATRON® SP 200对于清除网板上的焊锡膏也非常有效。可应用于喷淋清洗设备、超声波清洗设备或者空气辅助清洗设备中。相较于其他清洗液的优势：操作简单，使用方便使用
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  • 德国ZESTRON ATRON AP 125A碱性水基清洗剂
    德国ZESTRON ATRON AP 125A碱性水基清洗剂
    ATRON® AP 125A用于先进封装的碱性水基除助焊剂清洗剂ATRON® AP 125A是一款水基型清洗剂，专门研发用于去除各种封装类产品的水溶性助焊剂，如倒装芯片，包括2.5D/3D TSV堆叠、BGA和SiP等，同时能为底部填充、引线键合和注塑成型等后道工艺提供绝佳的表面条件。该清洗剂与敏感金属有高水准的材料兼容性，特别适用于低底部
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  • 德国ZESTRON ATRON AC 205水基碱性清洗液
    德国ZESTRON ATRON AC 205水基碱性清洗液
    ATRON® AC 205水基碱性助焊剂清洗液ATRON® AC 205是一款基于FAST® 快效表面活性剂技术的水基助焊剂清洗液，特别设计应用在接触时间较短的高压在线喷淋设备中。与传统的表面活性剂型清洗液相比, ATRON® AC 205所需的接触时间更短，而且清洗的负载量更高。相较于其他清洗液的优势：ATRON®AC 205的配方中不含有乙醇胺及其
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  • 德国ZESTRON VIGON® US碱性水基清洗液
    德国ZESTRON VIGON® US碱性水基清洗液
    VIGON® US用于去除助焊剂残留物的水基清洗液VIGON® US 是特别设计应用于超声波式，底部喷流式和离心式清洗设备中的水基清洗液。基于ZESTRON专利的 MPC微相清洗技术，VIGON® US可以清除电子组装件，倒装芯片和CMOS器件上的各种助焊剂残留物。相较于其他清洗液的优势：VIGON®US工艺窗口很宽，可以各种锡膏和助焊剂残留物V
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  • 德国ZESTRON VIGON® PE 190A 碱性清洗剂
    德国ZESTRON VIGON® PE 190A 碱性清洗剂
    VIGON® PE 190A专为功率电子及PCBA清洗应用设计的碱性助焊剂清洗剂专为喷淋清洗应用设计的碱性水基型清洗剂，能够有效去除引线框架、分立器件、功率模块、功率LED表面的助焊剂残留，在处理低引脚间距的PCBA清洗应用时同样表现出色。特别是在处理严重氧化和污染后的铜表面时效果良好。相较于其他清洗液的优势：在处理功率电
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  • 兆瓦级碱性水电解制氢装置
    兆瓦级碱性水电解制氢装置
    兆瓦级碱性水电解制氢装置兆瓦级碱性水电解制氢装置联系人：吴工电话：0592-5085207手机：18030132585: 2851195440厦门仲鑫达氢能技术有限ZXD分体式水电解制氢设备/系统单台设备产氢量可达20Nm3/h-1500Nm3/h，制氢站式布局所有不锈钢设备外表抛光处理，美观大方；电解槽采用双极性压滤式结构，绝缘密封垫片的密封性能强；气
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    厦门仲鑫达氢能技术有限公司
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