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  • AR-1,适用于低碱体系的金属清洗,在除油力强的基础上具有较低的泡沫,适合清洗金属加工形成的各种矿物油、拉伸油、抛光蜡、氯化石蜡等多种油污污垢。低泡沫 润湿性强 除油力强产品性能(1)AR-1低泡沫,可用于低泡清洗工艺;(2)AR-1具有一定耐碱性,可用于碱性除油清洗剂;(3)AR-1对矿物油、黄油、蜡等具有优异的清洗
    30.00
      
  • 纳米二氧化硅可以很短的时间内作用到微孔部位(30秒~60秒),在经过适当的温度(100℃)烘烤干燥后,将与基材以及周边辅助材料反应结合。纳米二氧化硅分散液材料使用方法:1.在钝化液中使用:在电镀工艺中,将该产品添加10%~30%到钝化液产品中,搅拌均匀后即可按照正常工艺使用。2.直接用作封闭剂:将该产品用纯水稀释4~5
    100.00
     
  • 科思美析(COOSIL)COOSIL38020-41色谱柱是科思美析(COOSIL)系列中平衡性与基本性能十分优越的色谱柱(分离碱性化合物和金属配位性化合物时出峰快,峰形尖锐,理论塔板数高)。其质量稳定可靠,数据丰富且条件设定简单,是反相柱先考虑的选择碱性化合物和金属螯合物的碱性化合物很容易受到填料中残存硅醇基的影响而产生拖尾现
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  • 我以高纯度醇铝为原料,将醇铝水解生成AlOOH,用碱作胶溶剂进行胶解,出了多种PH值为7-9的、胶粒粒径在10纳米、分散性较好的铝溶胶产产品具有胶体特征,其外观为乳白色胶体。胶粒微观结构呈羽毛状,带负电荷,不挥发、不可燃,高温脱水后生成活性氧化铝或高纯氧化铝。型CY-L10B液体状态乳白色液体固含量%20PH7-9粒径nm10特
    160.00
     
  • HYDRON® WS 400去除水溶性助焊剂的碱性水基清洗剂HYDRON® WS 400 是一款水基型清洗剂,特别设计用于去除电子组装件上水溶性(WS)助焊剂残留物。该清洗剂与敏感金属兼容。HYDRON® WS 400 在低浓度(3%-5%)应用时,可渗透去离子水无法达到的低底部间隙元器件的细小空隙。浓度上调至15%时,该清洗剂同样可以有效去除R和免洗型
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  • HYDRON® SE 230A用于半导体器件的碱性清洗剂专为浸没式清洗工艺设计的单相水基型清洗剂,能够有效去除多种半导体电子器件芯片焊接后的助焊剂残留物,包括引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS,且能够保证有效去除铜表面的氧化层。相较于其他清洗液的优势:为引线键合、封装和胶装等后续工艺提供无污点
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  • ATRON® SP 200用于清除烘焙过的助焊剂的水基清洗剂ATRON® SP 200是一款水基碱性表面活性剂型清洗液,特别设计用于清洗焊接夹具和冷凝管上烘焙过的助焊剂。ATRON® SP 200对于清除网板上的焊锡膏也非常有效。可应用于喷淋清洗设备、超声波清洗设备或者空气辅助清洗设备中。相较于其他清洗液的优势:操作简单,使用方便使用
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  • ATRON® AP 125A用于先进封装的碱性水基除助焊剂清洗剂ATRON® AP 125A是一款水基型清洗剂,专门研发用于去除各种封装类产品的水溶性助焊剂,如倒装芯片,包括2.5D/3D TSV堆叠、BGA和SiP等,同时能为底部填充、引线键合和注塑成型等后道工艺提供绝佳的表面条件。该清洗剂与敏感金属有高水准的材料兼容性,特别适用于低底部
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  • ATRON® AC 205水基碱性助焊剂清洗液ATRON® AC 205是一款基于FAST® 快效表面活性剂技术的水基助焊剂清洗液,特别设计应用在接触时间较短的高压在线喷淋设备中。与传统的表面活性剂型清洗液相比, ATRON® AC 205所需的接触时间更短,而且清洗的负载量更高。相较于其他清洗液的优势:ATRON®AC 205的配方中不含有乙醇胺及其
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  • VIGON® US用于去除助焊剂残留物的水基清洗液VIGON® US 是特别设计应用于超声波式,底部喷流式和离心式清洗设备中的水基清洗液。基于ZESTRON专利的 MPC微相清洗技术,VIGON® US可以清除电子组装件,倒装芯片和CMOS器件上的各种助焊剂残留物。相较于其他清洗液的优势:VIGON®US工艺窗口很宽,可以各种锡膏和助焊剂残留物V
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  • VIGON® PE 190A专为功率电子及PCBA清洗应用设计的碱性助焊剂清洗剂专为喷淋清洗应用设计的碱性水基型清洗剂,能够有效去除引线框架、分立器件、功率模块、功率LED表面的助焊剂残留,在处理低引脚间距的PCBA清洗应用时同样表现出色。特别是在处理严重氧化和污染后的铜表面时效果良好。相较于其他清洗液的优势:在处理功率电
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  • 兆瓦级碱性水电解制氢装置兆瓦级碱性水电解制氢装置联系人:吴工电话:0592-5085207手机:18030132585: 2851195440厦门仲鑫达氢能技术有限ZXD分体式水电解制氢设备/系统单台设备产氢量可达20Nm3/h-1500Nm3/h,制氢站式布局所有不锈钢设备外表抛光处理,美观大方;电解槽采用双极性压滤式结构,绝缘密封垫片的密封性能强;气
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    1.00
     
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