HWN-L纳米激光直写系统

HWN-L纳米激光直写系统是一款大、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统，可用于晶圆尺寸的大微纳加工，适用于各种微纳结构和器件、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型，具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外，本系统在设计之初保留了充足的物理空间和硬件资源，以满足后续功能升级换代的需求，使产品具有更长的生命周期。

一、激光直写系统的工作原理

激光直写系统是一种利用激光束直接刻写三维结构的方能的微小器件，如药物输送系统、生物传感器等。

光学元件

激光直写系统可以高精度的光学元件，如微透镜、光纤耦合器、波导等。这些元件在通信、光电子学、生物医学等领域有着广泛的应用。

HWN-L纳米激光直写系统

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