无掩模纳米光刻机

无掩模纳米光刻机采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，极大地扩展了激光直写设备的应用范围。

新一代激光直写光刻设备特点

具有核心知识产权的国产激光直写设备

具有超越衍射极限的加工能力

纳米光电子设备可适用于多种受体材料

本可根据客户需要提供定制设备并提供各种微纳结构样品的加工服务。

一、激光直写系统的工作原理

激光直写系统是一种利用激光束直接刻写三维结构的方法，其基本工作原理如下：

首先，计算机辅助设计（CAD）软件将所需对象的三维模型转换为数字，并发送给该产品的控制器。

然后，激光束聚焦到极小尺寸（通常小于1微米），通过扫描控制器按照预定轨迹精确地切割或烧蚀材料表面。此时，激光束强烈的能量密度使得原材料表面发生物理、化学反应，形成被切割、烧蚀的结构。

最后，重复以上步骤，直到对象的所有部分都被刻写完成。整个过程由计算机程序控制，可以自动化操作。

无掩模纳米光刻机

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