纳米二氧化硅抛光粉 镜面抛光 粒径50nm 100nm

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我二氧化硅抛光粉经纳米工艺生产的一种高纯度颗粒均匀,分散性好,切削力好,镜面的抛光粉,广泛用于多种材料纳米级的平坦化抛光,

 抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,光学器件、蓝宝石片等的抛光加工,金属镜面抛光。

 抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石等的抛光加工。

 技术指标: 

外观

粒径

纯度

应用

CY-SP50F

白色粉末

50nm

99%

精细抛光

CY-SP100F

白色粉末

100nm

99%

精细抛光


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