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	激光直写系统加工定制激光直写技术采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，极大地扩展了激光直写设备的应用范围。新一代激光直写光刻设备特点具有核心知识产权的国产激光直写设备具有超越衍射极限的加工能力激光直写技术	2025-09-26
	无掩模纳米光刻机无掩模纳米光刻机采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，极大地扩展了激光直写设备的应用范围。新一代激光直写光刻设备特点具有核心知识产权的国产激光直写设备具有超越衍射极限的加工能力纳米光电	2025-09-26
	激光直写技术激光直写技术采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，极大地扩展了激光直写设备的应用范围。新一代激光直写光刻设备特点具有核心知识产权的国产激光直写设备具有超越衍射极限的加工能力激光直写技术	2025-09-26
	HWN-P纳米激光直写系统 HWN-P纳米激光直写系统是专门为科研团队和加工平台设计的小范围多功能光刻系统，根据压电平台的范围，分为P100、P200、P500、P1000、P1500等不同型，具有结构紧凑、操作方便、维护简单、加工分辨率高、支持多种受体材料等特征，能广泛适用于各种微纳结构及器件、材料工艺探素和小规模生产。该系列产品还可根据用户特殊需求	2025-09-26
	HWN-L纳米激光直写系统 HWN-L纳米激光直写系统是一款大、高精度、可套刻、超衍射极限加工的激光直写系统，可用于晶圆尺寸的大微纳加工，适用于各种微纳结构和器件、小批量微纳器件生产等。该系列包括L50、L100等不同型，具有功能强大、维护简单、加工分辨率高、支持多种刻写模式、支持多种受体材料等特征。另外，本系统在设计之初保留了充足的物理	2025-09-26
	高效絮凝沉淀池高效絮凝沉淀池是颗粒物在水中作絮凝沉淀的过程。在水中投加混凝剂后，其中悬浮物的胶体及分散颗粒在分子力的相互作用下生成絮状体且在沉降过程中它们互相碰撞凝聚，其尺寸和质量不断变大，沉速不断增加。地面水中投加混凝剂后形成的矾花，生活污水中的有机悬浮物，活性污泥在沉淀过程中都会出现絮凝沉淀的现象。高效絮凝沉	2025-09-26
	实验室综合废水处理设备我们平常所说的实验室污水，主要包括（教学实验室、科研室、研究院等等）基本是采用一些技术手段将污水转变为无毒、无味、无污染，进而对其安全排放。实验室的污水相对比较复杂，而且不具有连续性、复杂多变，其含有的污染物杂质比普通的要高，因此，对其设备的要求也要高。A/O工艺特点(1)工艺流程简单，构筑物少，运行灵活	2025-09-26
	高速服务区污水处理设备设备说明大多数生活污水的主要污染物是病原性微生物和有毒有害的物理化学污染物，可以通过各种水处理技术和设备去除水中的物理的、化学的和生物的各种污染物，使水质得到净化，达到国家或地方的水污染物排放标准，保护水资源环境和人体健康。尽管如此，某些生活污水站由于处理技术和管理等方面的原因，污水不能做到稳定达标排放，与	2025-09-26

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