德国ZESTRON HYDRON® SE 220 中性清洗液

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去除助焊剂残留

HYDRON® SE 220

专为半导体电子设计的 pH中性助焊剂清洗液

助焊剂清洗剂

HYDRON® SE 220是一款水基型单相清洗液,专门设计用于浸没式清洗工艺。HYDRON® SE 220能够有效去除芯片黏着后引线框架、分立器件、功率模块、功率LED等多种半导体电子器件上的助焊剂残留,对于倒装芯片、CMOS等器件也有卓越的清洗效果。

相较于其他清洗液的优势:

  • 由于其独特的单相配方,HYDRON® SE 220能在浸没式清洗工艺中提供卓越的清洗结果。同时,可以轻松用去离子水进行漂洗,且漂洗后不会有任何残留

  • 该产品的pH呈中性,因此具有极佳的材料兼容性,特别不会对芯片表面的钝化层造成影响

  • HYDRON® SE 220能够提供洁净、被激活的铜表面,能使铜表面在短暂时间内保持在理想状态,为后续邦定、成型、黏胶等工艺做好准备

  • HYDRON® SE 220无闪点,可使用在浸没式清洗设备中,且无需防爆保护

  • 不含卤素成分,气味低


  • 功率电子器件清洗

  • SiP封装清洗

  • 晶圆级封装清洗

  • MEMS器件封装清洗

  • 摄像模组清洗

深圳市俊基瑞祥科技有限

曾生13902983965(微信同)

邮箱:zengken@sz-cksc.com

网址:www.sz-cksc.com

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