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  • Enasolv 四氟乙基三氟乙基醚(HFE-347)清洗剂产品介绍Enasolv 四氟乙基三氟乙基醚(化学名称:1,1,2,2 - 四氟乙基 - 2,2,2 - 三氟乙基醚,CAS :406-78-0,商品名:Enasolv HFE-347/Enasolv 347)是一款高性能氢氟醚类环保精密清洗剂,专为替代 ODS 物质和 HCFC 溶剂而研发,兼具卓越清洗能力、安全性与环境兼容性,广泛应
    60.00
     
  • Enasolv R141B(化学名称:一氟二氯乙烷 / HCFC-141B,CAS :1717-00-6)是一款高性能工业清洗剂,作为 CFC-113 的理想环保替代品,广泛应用于电子、精密机械、光学等领域的精密清洗。以下按 “产品简介、产品优势、产品参数、产品应用、产品总结” 五模块展开,便于商业资料与技术文档使用。一、产品简介Enasolv R141B 是
    60.00
     
  • 一、产品简介EnaSolv ES 是稳定化正溴丙烷溶剂体系,通过专利稳定剂配方抑制 nPB 在高温 / 金属催化下的分解,提升安全性与使用寿命。作为成熟的精密清洗脱脂剂,其物理特性与清洁功效可媲美 1,1,1 - 三氯乙烷 (TCA) 和三氯乙烯 (TCE),同时ODP=0、GWP=12,符合全球环保趋势,是传统有害溶剂的理想替代品。核心成分:正溴丙
    66.00
     
  • (日本)保亮美抹光亮布用途:{保亮美抹光亮布}用于清除工件表面污渍,使其表面回复光泽。工件包括珠宝首饰,钟表,银器,金属,木器,陶瓷,塑料。用用。 ※用{保亮美抹光亮布}于金器或银器表面时,要用轻轻力度。 日本规格:125mm X 195mm,或 5寸 X 7.5寸售价:¥19.00 /张 (綿布、超微粒子研磨材、高級脂肪酸)100张价格:
    19.00
       
  • 香港(三凤牌)海棠粉用途: 本厂是生产工业“三凤海棠粉”厂家,这种产品主要用于五金、电镀、打磨、抛光、表面去污、去锈斑、塑胶电镀、手表厂、工艺厂等,有特别显著效果。使用方法:用布粘取少许海棠粉在金属表面来回擦拭,就可达到您满意的效果,可去掉产品表面污迹、锈斑等,而且不伤表面基层,保持产品光度。注意事项
    9.00
       
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    19.00
       
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  • 进 口 除 腊 水 50 倍 浓 缩 活 性 超 声 波 除 腊 水 清 洁 剂万 锋 除 腊 水 是 澳 洲 最 新 的 环 保 清 洁 剂 , 其 成 份 超 过 90% 可 被 微 生 物 分 解 , 不 含 磷 化 物,不 会 造 成 环 境 污 染。 用 途:金 属 除 油, 除 磨 光 腊, 特 别 适 用 於 黄 铜;不 锈 钢;合 金 及 贵 金 属 喷 涂 各 类 涂 料 和
    800.00
       
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  • 唐山市设备清洗剂厂家 循环水缓蚀阻垢剂批发一、性能与用途 本品主要由多种有机膦羧酸、聚羧酸、含磺酸盐共聚物、缓蚀剂、特殊界面活性剂等组成,适用于循环水中钙硬度+碱度要求达到1500 mg/L的高浓缩倍率的循环冷却水系统。二、技术指标项目指标外观淡黄色透明液体 PH(1%) 2.0±1比重(25℃ g/cm3) 1.20±0.05固 含 量 32
    100.00
     
  • ZESTRON® VD用于无水工艺的助焊剂清洗液ZESTRON® VD是用于清除电子组装件,陶瓷基板,引线框架型分立器件表面上各种助焊剂残留物的溶剂型清洗液。 ZESTRON® VD设计用于闭环单腔的汽相清洗设备中。相较于其他清洗液的优势:ZESTRON®VD兼有极性和非极性成分,因此可以应用的领域非常广ZESTRON®VD可以通过蒸馏而重复使用
    面议
       
  • ZESTRON® SW用于印刷机内网板底部擦拭的精密清洗剂ZESTRON® SW 是闪点较高的溶剂型清洗液,它特别设计用于不带有真空干燥的T印刷机内,对网板进行底部擦拭。使用ZESTRON® SW 可以得到稳定可重现的清洗结果,另一方面,ZESTRON® SW 干燥后不会留下残留物,因此印刷工艺的可靠性得以提高。相较于其他清洗液的优势:ZESTRO
    面议
       
  • ZESTRON® SD 301用于清除焊锡膏、T 胶水和厚膜浆料的网板和丝网清洗液ZESTRON® SD 301 是一款改良配方的清洗液,气味更淡,其快速干燥能力缩短了清洗工艺的时间。ZESTRON® SD 301设计用在喷淋清洗设备中,来清除网板和丝网上的焊锡膏、T 胶水和厚膜浆料。另外,由于ZESTRON® SD 301 的闪点较高,因此还可以用于手工清洗
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  • ZESTRON® FA+用于半水工艺的助焊剂清洗液ZESTRON® FA+ 是用于清除电子组装件,陶瓷基板,功率器件(功率模块,引线框架型分立器件,功率LED器件)和封装器件(倒装芯片,CMOS器件)上各种助焊剂残留物的溶剂型清洗液。ZESTRON® FA+具有极佳的清洗能力和极高的负载能力,因此保证了其极长的使用寿命。相较于其他清洗液的
    面议
       
  • ZESTRON® DW用于镜片表面除蜡、PCB除蜡、功率电子除蜡的溶剂型清洗剂ZESTRON® DW是一款溶剂型清洗剂,专门设计用于去除镜片表面、电子元器件、混合陶瓷、功率模组和引线框架上的蜡残留。相较于其他清洗液的优势:ZESTRON®DW拥有良好的疏水性溶解力,类似于芳香烃(如:甲苯)和含卤溶剂(如:二氯甲烷)可以通过蒸馏而重
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  • ZESTRON® CO 150用于无水共溶工艺的精密清洗液ZESTRON® CO 150是一款为浸入式超声波清洗工艺而研发的溶剂型清洗液。ZESTRON® CO150可在不被稀释的情况下用作预清洗,或与HFE溶剂混合作为共溶溶剂使用。ZESTRON® CO 150特别适用于去除电子组装件,功率模块和引线框架型分立器件上的各种有铅和无铅免洗锡膏的助焊剂残留物
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  • HYDRON® WS 400去除水溶性助焊剂的碱性水基清洗剂HYDRON® WS 400 是一款水基型清洗剂,特别设计用于去除电子组装件上水溶性(WS)助焊剂残留物。该清洗剂与敏感金属兼容。HYDRON® WS 400 在低浓度(3%-5%)应用时,可渗透去离子水无法达到的低底部间隙元器件的细小空隙。浓度上调至15%时,该清洗剂同样可以有效去除R和免洗型
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  • HYDRON® SE 230A用于半导体器件的碱性清洗剂专为浸没式清洗工艺设计的单相水基型清洗剂,能够有效去除多种半导体电子器件芯片焊接后的助焊剂残留物,包括引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS,且能够保证有效去除铜表面的氧化层。相较于其他清洗液的优势:为引线键合、封装和胶装等后续工艺提供无污点
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