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  • 唐山市设备清洗剂厂家 循环水缓蚀阻垢剂批发一、性能与用途 本品主要由多种有机膦羧酸、聚羧酸、含磺酸盐共聚物、缓蚀剂、特殊界面活性剂等组成,适用于循环水中钙硬度+碱度要求达到1500 mg/L的高浓缩倍率的循环冷却水系统。二、技术指标项目指标外观淡黄色透明液体 PH(1%) 2.0±1比重(25℃ g/cm3) 1.20±0.05固 含 量 32
    100.00
     
  • 全自动直线空气洗瓶机:现代包装工业的“洁净先锋”在食品、医药、日化等行业的包装流水线中,全自动直线空气洗瓶机正以高效、洁净的核心优势,成为瓶类容器预处理环节的关键设备。它摆脱了传统水洗对水资源的依赖,以压缩空气为“清洁工具”,为包装安全筑起一道坚实防线。该设备的核心逻辑,是通过“高压吹扫+精密过滤”
    46000.00
       
  • 管道腐蚀是指输送液体(如:石油产品)的管道因化学反应或其他原因发生腐蚀而导致管道的老化,延缓管道的腐蚀即管道防腐是管道养护的重要环节,也是促进管道输送行业安全生产的重点之一。管道工程已成为石油能源运输的主要方式,而且石油管道运输在我国的国民经济中也承担着重要的角色。随着中国油田进入中后期,作为油田主
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  • ZESTRON® BATH YZER 20简单便捷,准确判断碱性清洗液的浓度测试方法为了获得稳定的清洗结果,客户必须保证清洗液的实际浓度在所建议的应用范围之内。例如“操作损耗”、稀释或蒸发等各种不同因素都对实际浓度具有潜在影响。因此,强烈建议定期测量所有和清洗工艺相关的参数。ZESTRON® Bath yzer 20是一款简单易用的测试方
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  • 在内镜诊疗过程中,内镜转运是至关重要的环节,关乎内镜的安全与诊疗效率。我们的内镜转运车,以设计与卓越品质,为内镜转运难题提供方案。一、稳固耐用,材质安全可靠1. 车体:主体选用SUS304不锈钢材质或者钢体喷塑,这种材质具有出色的耐腐蚀性,能够抵御各类化学试剂的侵蚀,无惧内镜清洗消毒过程中常用的酸碱清洁剂。
    1600.00
     
  • 单门软镜储存柜设有上中下三层挂钩,定位内镜,避免相互碰撞;主要控制方式采用微电脑中文显示控制系统。可储存3-4条内镜。双门软镜储存柜内部设有上中下三层挂钩,定位内镜,避免相互碰撞;主要控制方式采用微电脑中文显示控制系统。可储存6-10条内镜。单门硬镜储存柜内设有6层托盘用于存放硬镜及其他器械,托盘活动可拿下
    9500.00
     
  • 工作原理:本机采用全电脑控制,对内镜进行冲洗,清洗,漂洗,每个过程采用循 环流动浸泡,可消灭各类生物。性能特点:1、全过程有故障功能,洗消液不足、清洗酶不足、过滤器太脏或水压太低、内镜漏气、排水受堵、洗消槽水位太低。2、全过程自动持续监测,一旦渗漏,及时,并自动排水,使内镜得到好的保护。3、自动记录洗消
    68000.00
     
  • 一、材质优势洗手池采用PM高分子材料一次冲压成型,这种材质具有良好的抗冲击效果,无缝角设计,了卫生死角,耐酸碱腐蚀,抗氧化性能强,表面平滑光泽,日常清洁只需简单擦拭,就能轻松保持干净整洁,便于进行表面消毒处理,有效降低细菌滋生和交叉感染的风险。二、人性化设计1. 多种出水方式:出水方式丰富,有感应式、膝
    5000.00
     
  • ZESTRON® VD用于无水工艺的助焊剂清洗液ZESTRON® VD是用于清除电子组装件,陶瓷基板,引线框架型分立器件表面上各种助焊剂残留物的溶剂型清洗液。 ZESTRON® VD设计用于闭环单腔的汽相清洗设备中。相较于其他清洗液的优势:ZESTRON®VD兼有极性和非极性成分,因此可以应用的领域非常广ZESTRON®VD可以通过蒸馏而重复使用
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  • ZESTRON® SW用于印刷机内网板底部擦拭的精密清洗剂ZESTRON® SW 是闪点较高的溶剂型清洗液,它特别设计用于不带有真空干燥的T印刷机内,对网板进行底部擦拭。使用ZESTRON® SW 可以得到稳定可重现的清洗结果,另一方面,ZESTRON® SW 干燥后不会留下残留物,因此印刷工艺的可靠性得以提高。相较于其他清洗液的优势:ZESTRO
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  • ZESTRON® SD 301用于清除焊锡膏、T 胶水和厚膜浆料的网板和丝网清洗液ZESTRON® SD 301 是一款改良配方的清洗液,气味更淡,其快速干燥能力缩短了清洗工艺的时间。ZESTRON® SD 301设计用在喷淋清洗设备中,来清除网板和丝网上的焊锡膏、T 胶水和厚膜浆料。另外,由于ZESTRON® SD 301 的闪点较高,因此还可以用于手工清洗
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  • ZESTRON® FA+用于半水工艺的助焊剂清洗液ZESTRON® FA+ 是用于清除电子组装件,陶瓷基板,功率器件(功率模块,引线框架型分立器件,功率LED器件)和封装器件(倒装芯片,CMOS器件)上各种助焊剂残留物的溶剂型清洗液。ZESTRON® FA+具有极佳的清洗能力和极高的负载能力,因此保证了其极长的使用寿命。相较于其他清洗液的
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  • ZESTRON® DW用于镜片表面除蜡、PCB除蜡、功率电子除蜡的溶剂型清洗剂ZESTRON® DW是一款溶剂型清洗剂,专门设计用于去除镜片表面、电子元器件、混合陶瓷、功率模组和引线框架上的蜡残留。相较于其他清洗液的优势:ZESTRON®DW拥有良好的疏水性溶解力,类似于芳香烃(如:甲苯)和含卤溶剂(如:二氯甲烷)可以通过蒸馏而重
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  • ZESTRON® CO 150用于无水共溶工艺的精密清洗液ZESTRON® CO 150是一款为浸入式超声波清洗工艺而研发的溶剂型清洗液。ZESTRON® CO150可在不被稀释的情况下用作预清洗,或与HFE溶剂混合作为共溶溶剂使用。ZESTRON® CO 150特别适用于去除电子组装件,功率模块和引线框架型分立器件上的各种有铅和无铅免洗锡膏的助焊剂残留物
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  • HYDRON® WS 400去除水溶性助焊剂的碱性水基清洗剂HYDRON® WS 400 是一款水基型清洗剂,特别设计用于去除电子组装件上水溶性(WS)助焊剂残留物。该清洗剂与敏感金属兼容。HYDRON® WS 400 在低浓度(3%-5%)应用时,可渗透去离子水无法达到的低底部间隙元器件的细小空隙。浓度上调至15%时,该清洗剂同样可以有效去除R和免洗型
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  • HYDRON® SE 230A用于半导体器件的碱性清洗剂专为浸没式清洗工艺设计的单相水基型清洗剂,能够有效去除多种半导体电子器件芯片焊接后的助焊剂残留物,包括引线框架、分立器件、功率模块、功率LED、倒装芯片和CMOS,且能够保证有效去除铜表面的氧化层。相较于其他清洗液的优势:为引线键合、封装和胶装等后续工艺提供无污点
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  • HYDRON® SE 220专为半导体电子设计的 pH中性助焊剂清洗液HYDRON® SE 220是一款水基型单相清洗液,专门设计用于浸没式清洗工艺。HYDRON® SE 220能够有效去除芯片黏着后引线框架、分立器件、功率模块、功率LED等多种半导体电子器件上的助焊剂残留,对于倒装芯片、CMOS等器件也有卓越的清洗效果。相较于其他清洗液的优势:由
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  • HYDRON® SC 300单相水基型钢网清洗剂HYDRON® SC 300 是一款单相水基型清洗产品,用于在室温条件下对T钢网进行清洗。该清洗剂能够高效地在单一工艺中去除锡膏及T贴片胶残留。HYDRON®SC 300同时适用于清洗和漂洗应用,在烘干后不会留下残渍。相较于其他清洗液的优势:对锡膏和T贴片胶极佳的清洗效果烘干后不留残渍与钢网组
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  • ZESTRON® FLUX TEST指示PCB板表面羧基助焊剂活性物残留的分布情况ZESTRON® Flux Test借助于显色反应,可以标识出羧酸基型助焊剂中的活化剂。此测试方法对于离子污染度检测是非常重要的补充,因为无法看到的残留物可以轻易地被检测到。 另外,ZESTRON®Flux Test有助于清楚地将污染物的分布呈现出来,从而确保改进组件的可
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  • ATRON® SP 400用于清除夹具和冷凝管上助焊剂的水基清洗剂ATRON® SP 400是一款水基碱性表面活性剂型清洗液,特别设计用于清洗焊接夹具和冷凝管上被烘焙的助焊剂。 ATRON® SP 400 专门设计用于喷淋式清洗工艺。相较于其他清洗液的优势:ATRON®SP 400不易起泡,即使在含有大量助焊剂负载时ATRON®SP 400易于过滤,其使用寿
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